Crown-to-implant ratio在短寬植體上的電腦應力分析—Sotto-Maior(2015)

Journal of Prosthodontics 2015 Vol.24 P.52-56

J Prosthodontics 2015 Vol.24-1

通常在實際上很難看到應力在植體上的作用, 所以你會看到很多在巴西的研究使用電腦去運算到底植體設計上會不會讓力量過度停留在某些地方, 進而讓骨頭吸收.

在這個電腦模擬的實驗中, 使用5x7mm external hexagon cylindrical implant和5x6mm Morse taper conical implants, 然後分別接上metal-ceramic crown讓Crown/Root ratio分別成為1:1和2:1. 接著分別用垂直的力道和30度傾斜的力道去施力.

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垂直施力時, 無論C/I ratio及implant種類, 力量是集中在crestal region. 在30度角施力方面, 2:1 C/I ratio所造成的力道就明顯較大, Morse taper比較能將力道傳到implant根尖處.

所以如果C/I ratio 較大, 要避免水平的力量. Morse taper比較能將力量傳導開.

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